西人马(泉州)联合测控有限公司作为高端传感器设计制造企业,依托先进的工艺流程及世界一流的测试校准设备,在提供精品传感器产品的同时,也对外提供校准服务。同时FATRI UTC测试设施为客户提供迅速及严格品质控制的芯片级测试。先进的测试设备能为客户在6英寸晶圆提供全方位的测试服务。芯片测试服务包括测试项目的开发以及失效分析和可靠性测试等。
公司配备的9155D加速度计校准工作站,包括低频振动台(0.5Hz~500Hz)、中频振动台(10Hz~20kHz)、冲击振动台(20g~10000g),可对ICP®(IEPE)、电荷、压阻、电容和压电型加速度计进行背靠背精密校准。每套系统都根据ISO16063-11标准,A2LA认证的激光系统标定了参考标准,确保世界级的不确定度。该系统提供模块化组件,可对不同校准需求提供解决方案。
测量范围:Psi= 0°– 90°,Delta= 0°– 360°,无死区。测量准确度(提供技术证明文件):直射测量空气(Psi = 45°; Delta = 0°),满足:Ψ≤45°±0.01°,Δ≤0°±0.01° (1.5eV-5eV);测量重复性:SiO2薄膜厚度测量20次的标准偏差1δ优于±0.3Å或0.03%(样品SiO2/Si),633nm处折射率小于0.0002。折射率重复性:n±0.0002 (NIST 1000Å SiO2/Si)
XYZ三轴闭环扫描器,XY方向不小于30微米,Z方向不小于3微米;Z方向噪声水平:<0.3Å;XY方向噪音水平:<0.1nm,可实现AFM云母原子像测试要求;进针方式:智能自动进针方式,采用马达加压电陶瓷自动探测智能进针模式,保护探针及样品,可得到高分辨的测试要求。提供自动智能扫描模式:用户只需要选择扫描范围,系统就能够在扫描过程自动调节悬臂樑的驱动,“电路增益”和“扫描速度”等达到自动成像效果;定量纳米力学测试模块:在不影响成像速度下,在高分辨率(<10nm分辨率)形貌成相的同时可以同步原位获得高分辨率材料表面模量,表面附著力,形变量,能量损耗等;扫描半导体离子掺杂显微镜:可以测量半导体样品离子掺杂的类型(P型或者N型),可区分N和P型载流子以及掺杂浓度的相对分布,灵敏度能分辨<10e-18F的变化,扫描空间分辨率可达到10nm,载流子浓度成像从1e15 到1e20 carriers/cc;导电原子力测量模式使用导电探针针尖在扫描样品形貌的同时测量电流,通过电流测量,测量膜厚度的变化,电学缺陷的位置和其它特性。电流放大器分辨率在2皮安培(pico-amp),覆盖范围从10纳安培(nano-amps)到1微安培(micro-amp)量程。
分辨率: 二次电子像: 不低于0.8nm/15kV;分辨率不低于1.6nm/1kV,非减速模式,在低电压观察模式下样品台可以倾斜;放大倍率:10-1,000, 000倍, 根据加速电压和工作距离的改变,放大倍数自动校准,低倍率与高倍率无需模式更换;加速电压:0.02kV ~ 30 kV,步进≤10V,连续可调, 无需模式更换;电子枪:肖特基热场发射电子枪;电子束流:最大束流不低于20nA;束流稳定性: 优于0.2%。